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澳门赌场掩膜式压力传感器技术的成熟度详细分

发布日期:2021-03-19 12:04

  根据技术成熟度模型,掩膜式压力传感器是典型的高技术产品,其技术的创新提高到商品同样要经过四个阶段,第一阶段进行基础研究,第二阶段进行应用研究,第三阶段进行产品开发,第四阶段进行产品生产。

  当传感器产品进入市场后,合作伙伴和用户一般会进行各种反馈,生产者也会主动收集用户反馈,以便更好地开发和服务。反馈过程相应也有四级,第一级反馈到产品生产阶段,第二级反馈到产品开发阶段,第三级反馈到应用研究阶段,第四级反馈到基础研究阶段。其中第一级反馈主要解决的是产品质量和成本问题,第二级反馈主要解决的是产品工艺问题,第三级反馈主要解决的是新产品开发问题,第四级反馈则是针对最基本的自然规律的认识问题。

  掩膜式压力传感器技术的基础研究,主要为掩膜电路优化设计,即研究对压力敏感的、线性可测的掩膜电路,该理论研究非常成熟,有各种优化方案。掩膜技术本来也是基础研究的内容,现在已经十分成熟,就不当做问题探讨了。

  应用研究主要探讨不同温度、湿度、压力和环境范围(主要指液压、气压或固压,酸碱性或腐蚀性等环境)对掩膜传感器的要求,或研究各种掩膜传感器适应的需求。在此阶段,有几个技术问题长期困扰研究者:

  压力传感器中的掩膜电路随着温度变化会产生误差,有时可能严重到传感器失效的程度。温度不敏感的传感器,一般属于高端产品。

  阻抗高(5K欧姆以上),则损耗小。尤其是航天和军事应用对此有严格要求,具备高阻抗的传感器一般属于高端产品。

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